ITO，即氧化铟锡(IndiumTinOxide)，是一种N型半导体材料，由90%in2o3和10%sno2混合而成，具有高导电率、高透光率、高机械硬度和良好的化学稳定性。主要通过磁控溅射(物理气相沉积，PVD)真空镀膜的工艺制备薄膜。

　　磁控溅射原理：电子高速运行过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子。氩离子在电场的作用下加速轰击ITO靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的ITO靶原子沉积在基片上成膜。

　　ITO导电膜是hjc888黄金城(调光、电致变色、触控显示、电磁屏蔽、光伏电池等领域透明电极较常用的薄膜材料。

　　注：可以通过镀膜组合，实现基材的颜色调节，也可以实现对红外线的反射功能。

　　加反射镀层的调光膜遮阳系数0.12-0.6之间调节，传热系数降低0.4。